新版GMP出臺在即 制藥行業(yè)目光聚焦china-pharm展會
日期:2011-02-17 14:15
存有相當差距，不及時改進就會束縛醫(yī)藥工業(yè)的可持續(xù)發(fā)展進程。這也是我國積極推行新版GMP的原因之一。
作為國際制藥工程協(xié)會（ISPE）中國區(qū)技術委員會的負責人，拜耳技術工程的趙春華博士一直非常關注新版GMP的修訂進程。他認為，現(xiàn)有GMP與國際的最新標準在硬件要求及質量體系上都有相當?shù)牟罹唷＝陙恚瑖H的GMP要求逐步趨向于藥品質量生命周期、質量源于設計、質量風險管理等方面。這些新的理念還未在國內(nèi)得到推廣。新版的GMP在與國際標準的接軌上邁出了很大的一步，在硬件上如潔凈區(qū)的粒子的動態(tài)要求以及軟件上都提及了質量風
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